Konfokales Laser-Raster-Mikroskop, Olympus LEXT OLS3100

Mit dem konfokalem Laser-Raster-Mikroskop Olympus LEXT OLS3100 besteht die Möglichkeit hochauflösende Topographiemessungen, Partikelanalysen sowie Schichtdicken- und Rauhigkeitsmessungen durchzuführen.

Technische Daten:

  • Vergrößerung 5 x bis 100 x, zusätzlich 6x optischer Zoom
  • max. Arbeitsabstand (50 x Longrange Objektiv)
  • axiale Auflösung: max. 10 nm
  • laterale Auflösung: max. 120 nm
  • max. 70°-Schrägen darstellbar, keine Hinterschnitte

Anwendung:

  • Oberflächenanalyse
  • Topographiemessung
  • Rauheitsmessung
  • Partikelanalyse