Rasterelektronenmikroskope
Zeiss Ultra Plus
Technische Spezifikation:
- Betriebsspannungsbereich liegt bei 0,02-30kV
- Strahlstrom bis 100 nA
- Lokaler Ladungskompensator für die Abbildung nicht leitender Proben
- In-Lens, SE, EsB Detektor
- Kombiniertes EDX/EBSD-System zur Elementanalyse
- und Untersuchung von Phasen und Texturen
Phillips XL 40 ESEM TMP (jetzt FEI Quanta 600)
Technische Spezifikation
- Betriebsmodi: 200 V (low vacuum bis 26 mbar) bis 30 kV (high vacuum)
- ESEM (Wasserdampf- oder Gasatmosphäre)
- SE, BSE und GSE Detektor
- EDX-System zur Elementanalyse
- EBSD zur Untersuchung von Phasen und Texturen
- Kammer mit 379 mm Durchmesser
Anwendung
- Untersuchung der Oberflächenstrukturen von metallischen Proben und von nicht leitenden, unbeschichteten Keramik- und Polymerproben
- Charakterisierung von Bruchflächen
- Risswachstumsanalysen
- Analyse mit EDX: qualitative und quantitative Bestimmung der chemischen Zusammensetzung, EDX-Mapping (Schichtenaufbau, Mengenverteilung der einzelnen Elemente)
- Analyse mit EBSD: Korngrößencharakterisierung, örtliche Textur, Phasenidentifizierung und -verteilung, Bruchanalyse
