Rasterelektronenmikroskope

Zeiss Ultra Plus

Technische Spezifikation:

  • Betriebsspannungsbereich liegt bei 0,02-30kV
  • Strahlstrom bis 100 nA
  • Lokaler Ladungskompensator für die Abbildung nicht leitender Proben
  • In-Lens, SE, EsB Detektor
  • Kombiniertes EDX/EBSD-System zur Elementanalyse
  • und Untersuchung von Phasen und Texturen

 

Phillips XL 40 ESEM TMP (jetzt FEI Quanta 600)

Technische Spezifikation

  • Betriebsmodi: 200 V (low vacuum bis 26 mbar) bis 30 kV (high vacuum)
  • ESEM (Wasserdampf- oder    Gasatmosphäre)
  • SE, BSE und GSE Detektor
  • EDX-System zur Elementanalyse
  • EBSD zur Untersuchung von Phasen und Texturen
  • Kammer mit 379 mm Durchmesser

Anwendung

  • Untersuchung der Oberflächenstrukturen von metallischen Proben und von nicht leitenden, unbeschichteten Keramik- und Polymerproben
  • Charakterisierung von Bruchflächen
  • Risswachstumsanalysen
  • Analyse mit EDX: qualitative und quantitative Bestimmung der chemischen Zusammensetzung, EDX-Mapping (Schichtenaufbau, Mengenverteilung der einzelnen Elemente)
  • Analyse mit EBSD: Korngrößencharakterisierung, örtliche Textur, Phasenidentifizierung und -verteilung, Bruchanalyse