Mit dem konfokalem Laser-Raster-Mikroskop Olympus LEXT OLS3100 besteht die Möglichkeit hochauflösende Topographiemessungen, Partikelanalysen sowie Schichtdicken- und Rauhigkeitsmessungen durchzuführen.

Technische Daten:

• Vergrößerung 5 x bis 100 x, zusätzlich 6x optischer Zoom
• max. Arbeitsabstand (50 x Longrange Objektiv)
• axiale Auflösung: max. 10 nm
• laterale Auflösung: max. 120 nm
• max. 70°-Schrägen darstellbar, keine Hinterschnitte

Anwendung:

• Oberflächenanalyse
• Topographiemessung
• Rauheitsmessung
• Partikelanalyse