Konfokales Laser-Raster-Mikroskop, Olympus LEXT OLS3100
Mit dem konfokalem Laser-Raster-Mikroskop Olympus LEXT OLS3100 besteht die Möglichkeit hochauflösende Topographiemessungen, Partikelanalysen sowie Schichtdicken- und Rauhigkeitsmessungen durchzuführen.
Technische Daten:
- Vergrößerung 5 x bis 100 x, zusätzlich 6x optischer Zoom
- max. Arbeitsabstand (50 x Longrange Objektiv)
- axiale Auflösung: max. 10 nm
- laterale Auflösung: max. 120 nm
- max. 70°-Schrägen darstellbar, keine Hinterschnitte
Anwendung:
- Oberflächenanalyse
- Topographiemessung
- Rauheitsmessung
- Partikelanalyse
